頂立科技立式化學(xué)氣相沉積爐（沉積炭）

概述：立式化學(xué)氣相沉積爐（沉積炭）可用于以碳?xì)錃怏w（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理
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18874256050

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描述：4.0 產(chǎn)品質(zhì)量：4.0

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立式化學(xué)氣相沉積爐（沉積炭）技術(shù)特征

根據(jù)爐膛尺寸與結(jié)構(gòu)設(shè)置溫區(qū)，溫度均勻性好;

采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密封效果好，抗污染能力強(qiáng)；

采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好；

對炭沉積過程中產(chǎn)生的焦油、固體粉塵、有機(jī)氣體等能進(jìn)行有效的處理

立式化學(xué)氣相沉積爐（沉積炭）產(chǎn)品規(guī)格

以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進(jìn)行調(diào)整，不作為驗(yàn)收依據(jù)，具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準(zhǔn)。

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