鋁合金靶材廠家直銷

概述：適用于直流二極濺射、三極濺射、四級濺射、射頻濺射、對向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等，可鍍制反光膜、導電膜、半導體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護膜、集成電路、顯示器等，相對其它靶材，鋁靶材的
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2020-11-04 15:47:46 點擊23522次

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鋁靶材是用于真空鍍膜行業濺射靶材中的一種，是高純鋁經過系列加工后的產品，具有特定的尺寸和形狀高純鋁材料，安裝在真空鍍膜機上，濺射成膜。

鋁靶材物理性質：

鋁靶用途：適用于直流二極濺射、三極濺射、四級濺射、射頻濺射、對向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等，可鍍制反光膜、導電膜、半導體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護膜、集成電路、顯示器等，相對其它靶材，鋁靶材的價格較低，所以鋁靶材是在能滿足膜層的功能前提下的首選靶材料。

rich0101發布的信息
銅合金靶材生產廠家
銅靶材用途：適用于直流二極濺射、三極濺射、四級濺射、射頻濺射、對向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等，可鍍制反光膜、導電膜、半導體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護膜、集成電路、顯示器等，相對其它靶...
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