1噸/小時(shí)電子廠超純水設(shè)備是專(zhuān)為中小型電子制造車(chē)間、半導(dǎo)體封裝測(cè)試廠設(shè)計(jì)的高精度制水系統(tǒng)，以“強(qiáng)化預(yù)處理-雙級(jí)RO反滲透-EDI深度除鹽-終端超純化”為核心工藝鏈，整合抗污染與低微粒控制技術(shù)，可穩(wěn)定產(chǎn)出電阻率≥18.2MΩ・cm@25℃、總?cè)芙夤腆w（TDS）≤0.05ppm、微粒（≥0.1μm）≤1個(gè)/ml的超純水，滿(mǎn)足電子行業(yè)JEDECJESD22-A114等標(biāo)準(zhǔn)對(duì)芯片清洗、PCB顯影等環(huán)節(jié)的嚴(yán)苛水質(zhì)要求。設(shè)備以1噸/小時(shí)的持續(xù)產(chǎn)水能力適配電子廠間歇式生產(chǎn)特性，通過(guò)低污染設(shè)計(jì)與智能化微粒監(jiān)控，為電子元件的精密制造提供高穩(wěn)定性水質(zhì)保障。
一、核心工藝架構(gòu)與電子行業(yè)專(zhuān)屬設(shè)計(jì)
在工業(yè)超純水設(shè)備基礎(chǔ)上，針對(duì)電子廠水源特點(diǎn)與水質(zhì)需求進(jìn)行專(zhuān)項(xiàng)優(yōu)化：
（一）預(yù)處理系統(tǒng)：低污染與微粒控制強(qiáng)化
多介質(zhì)過(guò)濾單元：φ500mm304不銹鋼濾罐（內(nèi)壁電解拋光Ra≤1.6μm），內(nèi)裝600mm厚級(jí)配濾料（下層3-5mm石英砂+上層0.8-1.2mm無(wú)煙煤），運(yùn)行流速12m/h，通過(guò)梯度過(guò)濾去除懸浮物至濁度≤0.1NTU，SDI（污染指數(shù)）控制在≤3，為后續(xù)RO系統(tǒng)提供更嚴(yán)格的前置保護(hù)。自動(dòng)反沖洗采用“水反沖+氣擦洗+水正沖”三段式程序（反洗強(qiáng)度12L/(m²・s)），確保濾料再生效率≥98%，減少反洗殘留污染。
活性炭吸附單元：φ400mm304不銹鋼濾罐，填充碘值≥1000mg/g的椰殼活性炭（粒徑1.0-2.0mm），運(yùn)行流速10m/h，特異性吸附余氯（≤0.01mg/L）、TOC（去除率≥80%）及重金屬（如Cu²⁺、Ni²⁺≤0.01ppm），避免氯對(duì)RO膜的氧化及重金屬對(duì)電子元件的電化學(xué)腐蝕。采用單罐+備用濾芯組合設(shè)計(jì)，活性炭更換周期4-6個(gè)月，通過(guò)在線TOC監(jiān)測(cè)儀（檢測(cè)限1ppb）聯(lián)動(dòng)提示更換，確保有機(jī)物去除效果穩(wěn)定。
軟化處理單元：φ400mm304不銹鋼離子交換柱，裝填核級(jí)001×7MB陽(yáng)離子交換樹(shù)脂（交換量≥1.3eq/L），將原水硬度（以CaCO₃計(jì)）降至≤0.1ppm，防止RO膜結(jié)垢與后續(xù)管道產(chǎn)生鈣鎂沉積。采用流量-硬度-時(shí)間三參數(shù)控制再生（產(chǎn)水達(dá)30噸或出水硬度＞0.05ppm時(shí)啟動(dòng)），再生液為10%電子級(jí)NaCl溶液，避免工業(yè)級(jí)鹽中的雜質(zhì)污染樹(shù)脂。
保安過(guò)濾：30英寸精密過(guò)濾器（304不銹鋼外殼），內(nèi)置0.45μm聚醚砜（PES）折疊濾芯（3支并聯(lián)），作為RO膜的一道防護(hù)，濾芯每?jī)芍芨鼡Q一次，通過(guò)在線微粒計(jì)數(shù)器（檢測(cè)范圍0.1-5μm）實(shí)時(shí)監(jiān)控過(guò)濾效果，確保進(jìn)入RO系統(tǒng)的微粒數(shù)≤100個(gè)/ml。
（二）雙級(jí)RO反滲透系統(tǒng)：深度脫鹽與低污染運(yùn)行
一級(jí)RO單元：采用3支抗污染型RO膜元件（3支串聯(lián)，型號(hào)SW30HR-4040），單支膜面積400ft²，設(shè)計(jì)脫鹽率≥99.5%。運(yùn)行壓力1.6±0.1MPa，水溫控制在25±1℃（配備恒溫?fù)Q熱器），產(chǎn)水量1.8m³/h。濃水（約1.2m³/h）經(jīng)壓力回收裝置回收能量后排放，系統(tǒng)能耗降低15%。
二級(jí)RO單元：配置2支電子級(jí)低壓高脫鹽膜（2支串聯(lián)），產(chǎn)水量1.2噸/小時(shí)。二級(jí)RO產(chǎn)水電導(dǎo)率≤0.5μS/cm，通過(guò)在線電導(dǎo)率儀（精度±0.05μS/cm）與溫度補(bǔ)償系統(tǒng)聯(lián)動(dòng)，確保數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性，超標(biāo)時(shí)自動(dòng)啟動(dòng)循環(huán)凈化程序（循環(huán)路徑避開(kāi)產(chǎn)水水箱，避免污染）。
智能清洗系統(tǒng)：集成300LPP清洗箱（內(nèi)壁光滑無(wú)死角）與衛(wèi)生級(jí)清洗泵（316L葉輪），支持酸洗（0.5%檸檬酸+0.1%還原劑，pH3-4）與堿洗（0.1%NaOH+0.05%表面活性劑，pH10-11），清洗程序針對(duì)電子廠水源中常見(jiàn)的有機(jī)物污染優(yōu)化，清洗周期延長(zhǎng)至4-6個(gè)月，清洗后需檢測(cè)TOC≤5ppb方可恢復(fù)運(yùn)行。
（三）EDI深度除鹽單元
采用1臺(tái)IONPURE™VNX-25模塊（電子級(jí)），產(chǎn)水1.1噸/小時(shí)，在直流電場(chǎng)（0-500V可調(diào)）作用下，通過(guò)樹(shù)脂與選擇性膜的協(xié)同作
[本信息來(lái)自于今日推薦網(wǎng)]