NI-2006HSX 

概述: NI-2006HSX 使用可溶性陽極的鍍鎳工藝 NI-2006HSX 是氨基磺酸鹽型鍍鎳工藝,可產(chǎn)生低應(yīng)力的,半光亮的,延展性的鎳鍍層。本工藝尤其適用于作為貴金屬和非貴金屬電鍍的底層。它

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NI-2006HSX

使用可溶性陽極的鍍鎳工藝

 

NI-2006HSX 是氨基磺酸鹽型鍍鎳工藝,可產(chǎn)生低應(yīng)力的,半光亮的,延展性的鎳鍍層。本工藝尤其適用于作為貴金屬和非貴金屬電鍍的底層。它專門用于可溶性陽極體系的高速電鍍?cè)O(shè)備。

 

設(shè)備

槽 襯橡膠,PVC,PVDC,PP或聚乙稀,襯里需用60g/L磷酸鈉在50℃瀝濾8小時(shí),然后用水沖洗,再用5~10%硫酸溶液在60℃瀝濾8小時(shí),最后用清水徹底沖洗。

整流器 標(biāo)準(zhǔn)直流電源整流器,配有伏特計(jì),安培計(jì)和電流連續(xù)控制器。安培計(jì)應(yīng)用安培-分鐘計(jì)。

過濾 連續(xù)過濾,每小時(shí)至少一個(gè)循環(huán)。泵和濾芯應(yīng)使用惰性材料。接口用Nyflex管連接。不要用不銹鋼。

加熱器 用石英或玻璃加熱器,不要用不銹鋼。

攪拌 用陽極移動(dòng)或溶液循環(huán)攪拌。不要用空氣攪拌。

陽極 高純度的S陽極,用電解去極化或鎳柱陽極。陽極袋應(yīng)浸在含5%(v/v)硫酸的沸騰的水溶液中5~15分鐘,然后徹底沖洗干凈。

攪拌 盡可能快

電流密度 A/dm2 根據(jù)應(yīng)用和設(shè)備不同而不同,最大可達(dá)25

效率 mg/Amin 17.7 17.5~18.0

95%以上

鍍1微米所需時(shí)間

5   A/dm2 秒 60 50~70

20  A/dm2 秒 15 13~17

分析

試劑

混合指示劑: 溶解1g溴代百里酚鈦藍(lán)和5g溴甲酚紫于50mL乙醇中。

步驟

1. 準(zhǔn)確移取5mL試樣于250mL錐形瓶中。

2. 加入5滴混合指示劑。
注:此時(shí)溶液應(yīng)為藍(lán)色,若溶液為綠色,慢慢加入0.1N NaOH 直至溶液為藍(lán)色。

3. 加入約20g甘露醇,搖晃直至形成均勻的漿狀物。

計(jì)算

試樣吸收峰高度    

×43 = NI-2006HSX 添加劑濃度(mL/L)

 

標(biāo)準(zhǔn)溶液吸收峰高度

 

 

低應(yīng)力電鍍鎳 氨基磺酸鎳 啞光鎳 LECTRONIC 1003 HSX、LECTRONIC 1003、LECTRONIC 1003M、LECTRO-NIC OXR-1100、LECTRO-NIC OXR-1300、ENPLATE LDS AG 600

 

 

 

聲明

此說明書內(nèi)的內(nèi)容或關(guān)于本公司產(chǎn)品的建議,是根據(jù)本公司信賴的實(shí)驗(yàn)及資料為標(biāo)準(zhǔn)。因不能控制其他從業(yè)者的實(shí)際操作,本公司不能保證及負(fù)責(zé)任何不良后果。此說明書內(nèi)的所有資料也不能作為侵犯版權(quán)的證據(jù)。以上資料包括Enthone的專利信息。此說明書提供給顧客作為單獨(dú)使用本公司產(chǎn)品和工藝時(shí)用。

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