供應壓力容器光譜分析儀 JB-750型 

壓力容器光譜分析儀JB-750型，適用于分析相應的基體（金屬基體），如：Fe，Al，Cu，Ni， Co，Mg，Zn，Pb，Sn。覆蓋了全元素分析范圍，可根據(jù)具體需要選擇分析元素。應用范圍非常廣泛，適合壓鑄、熔鑄，鋼鐵或有色金屬行業(yè)的爐前金屬分析要求，進、出廠材料檢驗以及汽車、機械制造等行業(yè)的金屬材料的分析。

壓力容器光譜分析儀儀器特點

1、750mm焦距光柵設計，帕型-龍格裝置，高真空，分辨率高、靈敏度高等特點；由于機刻光柵可以產生較高級次的光譜，所以選線更具靈活性，從而避免光譜干擾。

2、儀器結構設計合理，電子系統(tǒng)采用國際標準機籠，高集成化電路設計，故障率低。

3、分析速度快、重復性好、穩(wěn)定性好。

4、采用高穩(wěn)定的數(shù)字光源，激發(fā)頻率在100—1000Hz之間變化，分析不同的樣品，可選擇不同的激發(fā)參數(shù)，可達到最佳的分析效果。

5、采用高集成化的采集和控制系統(tǒng)，自動化程度高。

6、采用進口的光電倍增管，具有暗電流小、信噪比高、使用壽命長等特點。

7、分析掃描過程可同時對所有元素進行掃描，掃描過程簡單，可快速分析出每個元素相對于基體元素的偏差。

8、激發(fā)樣品過程中，無需對激發(fā)臺進行水冷卻，可連續(xù)分析樣品也能達到較好的數(shù)據(jù)。

9、測控系統(tǒng)采用單板機測量與控制，與上位計算機進行數(shù)據(jù)交換，提高了運行速度。

10、通過計算機軟件來調整每個通道的光電倍增管負高壓，通道負高壓分 8 檔調整，從而大大地提高通道的利用率和分析譜線的最佳線性范圍在分析不同材質中的采用，減少了通道的采用數(shù)量，降低了成本。

11、可用于多種基體分析：Fe、Co、Cu、Ni、Al、Pb、Mg、Zn、Sn 等。

12、采用純中文 Windows 系統(tǒng)下的操作軟件，操作簡單易懂。

13、計算機軟件建有數(shù)據(jù)庫系統(tǒng)，方便了測量數(shù)據(jù)的查詢與打印，也可通過網絡遠程傳輸數(shù)據(jù)，方便快捷。

14、各項系統(tǒng)獨立供電，組成單元，使用方便，維護簡單。

15、采用光學部分恒溫措施，保證了儀器的正常運行，從而降低了對環(huán)境的要求。

16、采用高精度直線電機進行入縫掃描，速度快，精確度高。

17、采用整體出射狹縫，方面增加通道。

壓力容器光譜分析儀技術指標

1、外形尺寸：

⑴ 主機：（長1180×寬750×高1010）mm

⑵ 重量：凈重約 320Kg

2、激發(fā)光源：100-1000Hz數(shù)字光源。

⑴ 供電電壓：50Hz、220V±1%

⑵ 輸入功率：1.0KVA

⑶ 充電電容：預燃7.5μF，曝光 1.5μF

⑷ 峰值電流：預燃120A，曝光 30A

⑸ 主回路峰壓：300VDC(采用自動調整峰壓)

⑹ 引燃電路：脈沖幅度：+15KV

輔助間隙：采用隧道二極管

放電頻率：數(shù)字光源100Hz--1000Hz

3、激發(fā)臺

⑴ 樣品臺分析間隙：4mm

⑵ 充氬氣樣品架，無需水冷卻

⑶ 分析時間間隔：一般不到1分鐘

4、分光儀

⑴ 分析波段范圍：170~600nm

⑵ 光柵：曲率半徑750mm

刻劃密度：2400 線/mm

刻劃面積：30×50mm2

閃耀波長（一級）：300nm

線色散：0.55nm/mm

⑶ 入射狹縫寬度：20μm

⑷ 出射狹縫寬度：50μm、75μm

⑸ 光電倍增管：直徑 28mm,10級側窗管，熔融石英或玻璃外殼

⑹ 允許最多通道：允許64個通道（標準配置12個通道）

⑺ 分光儀局部恒溫：38℃±0.2℃

5、測控系統(tǒng)

⑴ 測控系統(tǒng)：采用單板機測量和控制，與上位計算機進行數(shù)據(jù)交換

⑵ 測量方式：分段積分

積分電容容量：0.047μF

重現(xiàn)性：RSD≤0.2%

⑶ 光電倍增管高壓電源：

電壓：-1000V

穩(wěn)定度：8 小時優(yōu)于 0.5%

高壓調節(jié)：從-550V 到-1000V 變化，分 8（0-7）檔調整

高壓設置：用戶通過計算機軟件改變

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