氧化釔 氟氧化釔 YF3 YOF Y5O4F7 Y2O3 

半導體刻蝕設備零部件再生

半導體刻蝕設備零部件清洗

半導體刻蝕設備零部件噴涂

作為半導體制造設備內部的保護性涂層，半導體干蝕設備內部暴于高反應性鹵素或氧系等離子體。

若非耐電漿材料元件(如，石英玻璃、氧化鋁和陽極化的鋁)以原本狀態使用，則會發生表面腐蝕而伴隨著生成粒子，其造成半導體上之微觀電路的缺陷。

因此，于半導體制造設備之待外露的表面提供用以賦予抵御等離子體的耐蝕性和保護設備之元件的保護性涂層。

此保護性涂層之一是對于種類繁多的等離子體展現耐蝕性的氟氧化釔。