光解氧化除臭設備采用微波場激發紫外線燈，產生高強紫外線，UV光氧，其中154nm-185nm波長在系列光譜中使占比例高達14%，紫外線劑量大于65mw/cm2，光子能量大于880kJ/mol，是當前工業UV/O3紫外燈中劑量和能量最1大的紫外線，能迅速裂解硫1化氫(H-S鍵能為368kJ/mol)，UV光氧凈化機，氨氣(H-N鍵能為393kJ/mol)等鍵能小于880kJ/mol的分子鍵；光解時間大于1s，紫外線同樣能裂解自然界中相對比較穩定的氮氮叁鍵(鍵能941.69kJ/mol )。紫外線光解氧氣產生臭氧(活1氧O3)，臭氧能快速氧化金屬性較強的污染物，臭氧量可根據污染物的濃度以及后續反應時間設定。
   有些產生廢氣的工藝所排出的廢氣中會體現出惡臭、黏附、高溫，高濕、此種工況下要完全處理廢氣根本不可能，在高于80℃的工況下光氧設備的光源效率僅為40℃時的50%，如果黏附物黏在光管壁上，光氧處理器，那么光源就無法散發，沒有光源的設備就沒有凈化處理功能，因此在光氧廢氣處理裝置前設置水噴淋降溫，及粗效過濾作為預處理器，從而確保由原配套風機抽風引入的廢氣中所含塵雜在進入光氧廢氣處理裝置時得到有效的攔截過濾。把通過初步預處理的廢氣送入光氧廢氣處理裝置后采用風機送出。